日本橫濱國際光學與光電技術展覽會將于2025年4月23日（星期三）至25日舉行。研討會的目的是召集來自日本、美國和世界各地的光掩模、NGL掩模和相關技術領域的工程師和研究人員，討論最新進展、應用和未來趨勢。會議議程將包括受邀論文、投稿論文、海報會議和小組討論的附加會議。

演講主題：

第1節(jié)

下一代 EUV 掩模板坯的開發(fā)

高數(shù)值孔徑 EUV 光刻的光化空白檢測

第 2 節(jié)

面板的復雜性和應用的多樣化創(chuàng)造了FPD光掩模增長機會，超過了FPD市場本身

第 3 節(jié)

確保 3DIC 組件中小芯片的良率和可靠性

支持先進封裝和異構集成的解決方案

光掩?？逃〖夹g可滿足各種先進封裝應用需求

征集有關以下及相關主題的論文：

- 光掩膜材料

- 光掩膜的制造工藝步驟和設備（顯影、蝕刻、清潔等）

- 光掩膜刻寫工具和技術，包括多光束 EB 刻寫器

- 計量/檢測/維修工具和技術

- 用于 EUVL/ NIL/ FPD 掩膜的技術和基礎設施

- EDA、MDP、曲線 ILT 和 DTCO

- 帶 RET 的光掩膜：PSM、OPC、SMO 和多重圖案化

- 光掩膜相關光刻技術

- NGL 掩膜技術及其應用： DSA 及其他

- 戰(zhàn)略和業(yè)務挑戰(zhàn)：成本、周期時間和整體掩膜解決方案

- 半導體和電子設備的圖案技術

- 半導體制造技術

- 電子束直寫和電子束光刻技術

- 利用人工智能技術提高研發(fā)和 HVM 效率

- 用于中低端掩膜的傳統(tǒng)工具

- 學術界的光掩膜和光刻相關技術

展會最新時間及地點：2025年4月23日至25日??日本-橫濱-光電?(意向參展請點擊詢洽盈拓展覽專業(yè)展會顧問）

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